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隨著市場競爭的加劇和技術進步的不斷推進,半導體企業必須持續創新、不斷降低產品成本,提高產品效率,才能在激烈的市場競爭中立于不敗之地。其中,降本增效已成為半導體企業生存和發展的必由之路。

提升良品率和資源利用效率,是半導體企業降本增效的兩大途徑,而處于半導體上游的超純水制備,可以在以上兩大環節深度參與其中。近些年來,包括高頻科技在內的頭部超純水企業,一直探索通過先進的超純水工藝和循環再生解決方案,助力半導體企業降本增效,并取得令人矚目的成果。

超純水先進工藝,協助企業降本增效

對于一種包含1000道工序的半導體工藝技術來說,若是每一道工序產品良率為99.9%,則最終的產品良率僅為36.7%。因此,半導體企業想要實現降本增效,首先要在單個工序中進一步提升產品良率,達到99.99%甚至99.999%的良率標準。而超純水則是提升良品率的關鍵之一。上千道芯片制造工藝的過程中有30%都在濕法清洗,都需要用到電阻率為18兆歐以上的超純水。當集成電路的集成度越高,線寬越窄,對水質的要求也就越高。換言之,越接近18.24兆歐理論極限值的超純水,對芯片清洗的效果越好,也越有利于助推良品率提升,進而打下降本增效的基石。

此外,半導體企業降本增效還需提升水資源利用效率。半導體是用水密集型行業,吸收了27%的工業用水。而且行業統計數據表明,芯片生產的先進制程技術越進步,清洗步驟越多,用水量會呈指數級提升。隨著半導體行業開始進入“后摩爾定律時代”,資源利用率已經成為制約半導體產業發展的核心要素之一。因此,提升半導體用水效能,是半導體企業降低生產成本,提升競爭力和實現可持續發展的關鍵突破口。

高頻科技立足先進超純水工藝及解決方案,賦能降本增效

作為半導體產業鏈上極為重要的一環,高頻科技始終關注半導體客戶多方面需求,通過不斷提升超純水水質指標,優化水循環再生解決方案,幫助提升良品率和水資源利用效率,以“雙維度”助力半導體企業降本增效。

在超純水水質指標提升方面,高頻科技取得重要成果,超純水雜質濃度解決方案有了突破進展,特別是在PPB級別的TOC、溶解氧去除,以及PPT級別的硼、硅等特殊物質的去除方面。通過過硬的技術把控力和工程實踐經驗,針對有機物(TOC)、顆粒物、細菌、金屬和陰離子等影響良率的主要雜質,已經實現領先于行業的技術成果,產水水質接近絕對純度,電導率無限接近18.24MΩ•厘米的理論極限值,其純度可達99.9999999999%,可以有效地避免雜質對芯片的影響,保證芯片的質量和穩定性,從而提升良品率,為半導體客戶塑造強大的經濟效益壁壘。

在提升水資源利用效率方面,高頻科技同樣擁有走在行業前列的成果和解決方案。依托自有優秀半導體水系統專家,高頻科技從覆蓋半導體企業用水生命周期整體流程統籌規劃,在確保超純水水質純度穩定達標的基礎之上,配合多類廢水的收集與處理系統,研發交付了超過30種可選回用水工藝技術,包括砂濾及炭濾器反洗水回用、砂濾及炭濾器正沖水回用、反滲透濃縮水回用、EDI和UF濃縮水回用、反滲透沖洗水回用、冷卻塔排放水回用、低濃度有機廢水回用、混床再生沖洗水回用、低濃度含氟廢水回用、洗滌塔排放水回用、儀表排放水回用等,積極尋求節水機會點,并以清洗質量、良品率為核心導向,已實現水制程回收率達75%-90%,讓每一滴超純水都可以循環再利用。

同時,高頻科技從覆蓋半導體企業用水生命周期整體流程統籌規劃,通過事前規劃、專家運維、綠色水系統創新等維度,協助半導體企業打造低本高效、操作便利、維護簡單、可擴充性、理念創新的“綠色廠務工廠”,助半導體企業高效可持續發展。

降本增效是半導體企業必須要面對的重要課題。超純水純凈工藝和水循環設備及解決方案,是半導體企業實現高良品率和水能效的關鍵因素之一,也是企業提高競爭力和效益的突破方向。作為立足于超純工藝能力的工業級技術服務商,高頻科技不斷推進超純水和水循環技術的研發及創新,以滿足半導體企業降本增效的需求,為產業高質量發展做出貢獻。

免責聲明：市場有風險，選擇需謹慎!此文僅供參考，不作買賣依據。