近年來,國內半導體逐步踏上擁抱先進制程之路,加入14nm、7nm工藝的芯片公司增多。而在此過程中一系列挑戰也隨之出現,良率提升是其中最大的挑戰之一。提升良率不僅需要更前沿的生產技術,還需要超純水工藝作為支撐。高頻科技為代表的本土超純水企業,通過先進的超純水工藝助力提升半導體生產的良率和運營效率,賦能產業發展新征途。
完善超純水系統,可有效提升IC制造良率
污染物是半導體器件性能、可靠性和良品率降低的直接原因。研究表明,沾污帶來的缺陷引起的芯片電學失效,比例高達80%。正因如此,芯片生產過程中需要利用超純水對硅片進行清洗。隨著半導體先進制程的推進,光刻步驟的增加,需要清洗的步驟也進一步增加,對超純水品質的要求也更加嚴格。
在集成電路芯片制造過程中,與硅片接觸的超純水所含離子或微生物等雜質越多,對產品良率影響就越大。只要顆粒、電阻率、TOC和氣泡中的一個指標略有差異,半導體元件生產的合格率就會降低。反之,超純水系統越完善,水純度越高,越能為半導體元件良率提升帶去保障。
完善的超純水系統需要克服工藝和工程實踐的多重挑戰。一般超純水系統要經由多重過濾、離子交換、除氣、逆滲透、紫外線、超濾、納米濾、離子吸附過濾等多個環節才能產生超純水,整個制造過程中采用的工藝技術復雜而精細,不容偏差。此外,各地供應水源中的離子含量也各有差別,為適應供水水源的轉變并保證出水水質,電子級超純水制備系統需要進行優化,加強技術聯用工藝設計與運行,這也對超純水企業的工藝能力帶去挑戰。
掌握先進超純水工藝,護航半導體良率
高頻科技作為立足于超純工藝能力的工業級技術服務商,不斷通過技術工藝研發創新提升超純水工藝成熟度,在探索超純水絕對純度的道路上不斷獲得突破,實現了以“純度”護航半導體良率。
面對硼、硅等特殊物質去除這一讓行業頭疼的難題,高頻科技通過工藝創新以及終端材料的優化,實現了PPT級別的深度去除。并憑借過硬的技術把控力和工程實踐經驗,針對有機物(TOC)、顆粒物、細菌、金屬和陰離子等影響良率的主要雜質,已經實現領先于行業的技術成果,產水水質接近絕對純度,電導率無限接近18.24MΩ?厘米的理論極限值,其純度可達99.9999999999%,不斷滿足半導體行業日益提升的用水需求,并為提升芯片生產良品率帶去助力,獲得客戶認可和行業廣泛關注。
同時,針對半導體超純水運維復雜、麻煩,成本較高等行業痛點,高頻科技依托公司大批自有優秀半導體水系統專家的資深經驗,創立標準化運維專家模型,為半導體工廠量身定制一體化運維服務體系,滿足客戶全周期、高效率運維需求、并幫助拓展降本增效空間,滿足省事舒心的需求。
提升良率是芯片廠商自始至終都需要關注的重要課題,良率高低不僅取決于芯片的設計和生產制造水平,還貫穿產業鏈的上下游,貫穿于芯片生產的全周期。超純水作為芯片生產過程中極為重要的一環,與半導體生產良品率及生產成本等直接相關。高頻科技等具有先進工藝的超純水企業,通過不斷提升超純水產品質量及服務水平,為半導體良品率提升,以及構筑高質發展壁壘做出貢獻。
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